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旋片式真空泵的原理、應(yīng)用、安裝、故障與維護(hù)方法

旋片式真空泵是一種油封式機(jī)械真空泵,是真空技術(shù)中最基本的真空獲得設(shè)備之一。旋片式真空泵可以抽除密封容器中的干燥氣體,若附有氣鎮(zhèn)裝置,還可以抽除一定量的可凝性氣體。但它不適于抽除含氧過高的,對(duì)金屬有腐蝕

真空泵的保養(yǎng)方法,非常實(shí)用!

1、不要再過冷的環(huán)境下使用。2、使用前可以先適當(dāng)?shù)念A(yù)熱。3、向軸承體內(nèi)加入軸承潤(rùn)滑機(jī)油,觀察油位應(yīng)在油標(biāo)的中心線處,潤(rùn)滑油應(yīng)及時(shí)更換或補(bǔ)充。4、關(guān)好出水管路的閘閥和出口壓力表及進(jìn)口真空表。5、點(diǎn)動(dòng)電機(jī)

真空技術(shù)中常用的清潔處理方法

真空技術(shù)中的清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零部件的清潔處理。在各類真空工藝生產(chǎn)中,例如電真空工藝、真空鍍膜工藝、真空焊接工藝等,都十分重視真空衛(wèi)生問題。在電真空工藝中,要求裝配到

真空泵真空度低什么原因,如何調(diào)節(jié)?

真空泵真空度低的原因:一、真空泵本身漏氣1、密封圈漏氣。應(yīng)檢查所有密封部位的密封情況,更換破損的密封圈;2、氣鎮(zhèn)閥墊圈損壞,或未擰緊。應(yīng)更換墊圈并擰緊氣鎮(zhèn)閥;3、排氣閥片損壞,密封不好,應(yīng)更換氣閥片;

磁控濺射鍍膜膜厚均勻性設(shè)計(jì)方法

磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜,在國(guó)防和國(guó)民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大。鍍膜工藝

真空設(shè)備真空計(jì)的分類及應(yīng)用

在真空鍍膜設(shè)備真空裝置自動(dòng)控制中,往往要進(jìn)行真空測(cè)量,由于真空裝置種類繁多、工作壓力范圍也不盡相同,因此,從105Pa—10-5Pa各真空區(qū)域的真空測(cè)量塢會(huì)遇到。通常使用的真空計(jì)有電阻真

蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜有什么區(qū)別?

眾所同知,真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射,那么,蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜有什么區(qū)別?不少新手朋友有這樣的疑問,下面小編為大家做出的相關(guān)講解。 真空蒸發(fā)膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻

那些需要知道的真空基礎(chǔ)知識(shí)

常用物理氣相沉積技術(shù)(PVD)之蒸鍍、濺射、離子鍍,這三種技術(shù)都要在真空條件下才能得以實(shí)現(xiàn)。制備現(xiàn)代薄膜材料,不管是物理氣相沉積技術(shù)(PVD),還是化學(xué)氣相沉積技術(shù)(CVD),都要涉及真空條件下氣相產(chǎn)

E型電子槍的裝配

燈絲控制極窗口靠近發(fā)射電子多,在同樣的電源電壓及束流下(束流為陽極截獲電流與坩堝中電流之和)蒸發(fā)速率就快,但易受離子攻擊,導(dǎo)致燈絲壽命縮短。燈絲與控制極(聚束極)國(guó)內(nèi)、國(guó)外設(shè)備裝配尺寸可以相同,都是同

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